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词语 次微米计画
释义
次微米计画
注音ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ拼音cì wéi mǐ jì huà
  次微米指小於一微米的半导体制作技术。民国七十九年,政府为建立完整之半导体产业,期盼能引导产业进入次微米时代。乃由经济部委托工研院电子所主导,并拨列经费以规划筹建次微米实验室,做为驱动我国 IC 技术跨入次微米新纪元的前哨。七十九年七月,次微米计画研发工作正式展开,为期五年(西元一九九〇至一九九五年)。整体计画目标如下:⑴ 建立一座八寸晶圆,Class 0.1(0.3 微米)的世界一流水准的实验室,以提供开发次微米制程技术。⑵ 在一九九五年以前使中华民国具备:⒜ 0.7 / 0.5 微米整合制程技术。⒝ 0.35 微米制程模组技术。⑶ 建立超洁净技术及八寸晶圆量产型技术。⑷ 建立中华民国极大型积体电路(ULSI)研究发展能力,并对世界 IC 研究发展的领域有所贡献。
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更新时间:2024/11/11 8:39:35